一帮憨卵颅内高潮了！
先说 3 个基本事实：
1、2008年 SMEE 失败的那台机器就是 193nm 光源。至今16年了，还是193nm。不过，如果国产化了倒也是个进步。
2、SMEE 内部有强烈的资本运作，这个不是秘密，工商网一查就知道。
3、光刻机是高精度复杂设备，不是汽车，给你钥匙就行，而要在工厂长期调校改进后才能用。换言之，若此机器可用则早就在业内人尽皆知，若横空出世则路还很长！
再看这次宣传上的怪事：按惯例光刻机都是说光源波长或者硅片上的成像波长，比如这种光源193nm的机器，通常叫“100nm光刻机”或者“90nm光刻机”，它的套刻精度本来就应该是几个nm，20年前就是如此！而这次竟突然说套刻精度，以至于一帮人（不知有意还是无意）说这个机器可用于 8nm 工艺！
16年过去了，中国光刻机肯定有些进展。但这次的宣传，很可能是资本炒作。
当然，如果这台机器稳定可用，也是中国的一大进步，值得庆贺。但是资本就别来凑热闹了！
